tetrafluoruro de carbono CAS 75-73-0
nombre del producto: tetrafluoruro de carbono tetrafluoruro de carbono gas tetrafluoretano perfluorocarbono
Grado del producto: grado analítico
pureza del producto: 99.999%
Especificación de empaquetado: 40L
nombre chino: condiciones: 200-896
Fórmula Molecular: CF4
peso Molecular: 88
Propiedades físicas y químicas:-Punto de fusión: -184 ℃
El tetrafluoruro de carbono es el gas de grabado de velas de plasma más utilizado en la industria de la microelectrónica. Es una mezcla de gas de alta pureza y gas tetrafluoruro de carbono de alta pureza con oxígeno de alta pureza.
1. Puede ser ampliamente utilizado en el grabado de velas de silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio, vidrio de silicio fósforo y materiales de película delgada de tungsteno. Para sistemas de silicio y dióxido de silicio, cuando se utiliza CF4-H2 grabado de iones reactivos, ajustando la relación de los dos gases, se puede obtener una selectividad de 45:1, que es muy útil al grabado de películas de dióxido de silicio en puertas de polisilicio.
2. También es ampliamente utilizado en la limpieza de superficies de dispositivos electrónicos, producción de células solares, tecnología láser, aislamiento de fase de gas, refrigeración a baja temperatura,
agente de detección de fugas, control de la actitud del cohete espacial y agente de descontaminación en la producción de circuitos impresos.
3. Debido a su estabilidad química extremadamente fuerte, CF4 también se puede utilizar en las industrias de fundición de metales y plástico.
4. El tetrafluoruro de carbono tiene buena Solubilidad en oxígeno, por lo que los científicos lo utilizan para reemplazar el aire comprimido ordinario en experimentos de buceo ultraprofundo. Se ha utilizado con éxito en ratones y los ratones aún pueden escapar de forma segura a una profundidad de 275 a 366 metros.
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