El tetrafluoruro de carbono CF4 es una fuente de flúor y fluoruro de carbono de radicales libres, que se utiliza en varios procesos de grabado de obleas. El tetrafluoruro de carbono CF4 se combina con oxígeno para producir polisilicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio. El tetrafluoruro de carbono es relativamente inerte en condiciones normales y puede causar asfixia en áreas no ventiladas. En un entorno de plasma de radiofrecuencia, los radicales libres de flúor aparecen en forma de trifluoruro de carbono o difluoruro de carbono típico. El tetrafluoruro de carbono de alta pureza puede controlar bien el proceso de procesamiento, de modo que el tamaño y la forma puedan controlarse mejor. Esto es diferente de otros halocarbonos que no son propicios para varios controles especiales (como el control de anisotropía de semiconductores) cuando encuentran aire u oxígeno. Su gas de alta pureza y la mezcla de gas de tetrafluoruro de carbono de alta pureza y oxígeno catiónico de alta pureza pueden ser ampliamente utilizados en el grabado de velas de silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio, vidrio de silicio fósforo y materiales de película delgada de tungsteno.
El tetrafluoruro de carbono CF4 tiene un efecto anestésico a altas concentraciones. Su gas de alta pureza y su mezcla con oxígeno de alta pureza son los gases de grabado de plasma más utilizados en la industria de la microelectrónica. También se pueden utilizar como refrigerantes de baja temperatura y medios aislantes de baja temperatura. Tiene buena estabilidad química y térmica, es inerte a muchos reactivos y no se hidroliza a 1000 'c. No reacciona con cobre, níquel y tungsteno a temperatura ambiente. Debido a la estabilidad química extremadamente fuerte del enlace C-F, los perfluorocarbonos representados por CF4 pueden considerarse básicamente no tóxicos.
El tetrafluoretano (CF4) tiene una alta estabilidad y es un gas completamente no inflamable. No Reacciona con ácidos, álcalis y oxidantes a temperatura ambiente, no reacciona con metales de transición como Cu, Ni, W y Mo por debajo de 900. C. Y no reacciona con carbono, hidrógeno y CH4 por debajo de 1000. Puede reaccionar con reactivos Metálicos Líquidos de amoníaco y sodio a temperatura ambiente, y CF4 puede reaccionar con metales alcalinos, metales alcalinotérreos y SiO2 a altas temperaturas para generar los correspondientes fluoruros. CF4 comienza a descomponerse a 800 C C y puede reaccionar con CO y CO2 para formar COF2 bajo la acción de un arco eléctrico. Algunas personas también han intentado polimerizar CF4 a temperaturas de arco de carbono para sintetizar otros fluorocarbonos.
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